概  述：

水源为二***反渗透产水，水质较好。EDI系统采用50m³/h设计，抛光混床采用60m³/h循环设计。

一、 原水***性

1．设计水源：二***反渗透产水。

   电导率：≤10us/cm

   PH: 6.0-7.0

   硬度： ≤30umol/L

     水温：常温

     二氧化硅：≤100ug/L

二、 系统出力（25℃）

2.EDI

回收率：90-95%

    产水量：50m³/h（25℃）

产水电阻率：15兆欧

3．抛光混床

    产水量：60m³/h（25℃）

产水电阻率：18.2兆欧

三、设计标准与规范

4.1  国产设备的制造和材料符合以下标准、规范：

ASTM-D5127-2013(电子及半导体工业用纯水水质要求)

（GB/T 50109-2006）《工业用水软化除盐设计规范》

（GB/T 13922-2011 ）《水处理设备性能试验》

（GB/T 19249-2003）《反渗透水处理设备》

（GB 150-2011）《压力容器》

（GB/T 4272-2008）《设备及管道绝热技术通则》

（GB 50316-2000（2008版））《工业金属管道设计规范》

（GBJ 87-1985）《 工业企业噪声控制设计规范》

（HG 20538-1992）《衬塑（PP、PE、PVC）钢管和管件》

（HG 21501-1993）《衬胶钢管和管件》

（HG/T 20679-1990）《化工设备、管道外防腐设计规定》

（HG/T 20592～20614-2009 ）《钢制管法兰、垫片、紧固件 （PN系列）》

（JB/T 2932-1999）《水处理设备 技术条件》

（JB/T 4711-2003）《压力容器涂敷与运输包装》

（NB/T47003.1-2009（JB/T 4735.1）《钢制焊接常压容器》

（NB/T 47014-2011）《承压设备焊接工艺评定》

四、 系统工艺及说明

1、工艺流程框图

二***脱盐水→UV灭菌器→脱盐水箱→EDI给水泵→TOC脱除器→0.2um膜滤器

→膜脱气装置→EDI装置→氮封水箱→超纯水泵→膜脱气装置→TOC脱除器

→抛光混床→0.1um膜滤器→回流UV灭菌器→回流到氮封水箱（10t/h）

↓

              用水点 (50t/h)

2.清洗工艺流程

清洗水箱→清洗水泵→清洗保安过滤器→EDI

五、系统设备简介

5.1 EDI给水泵

   EDI给水泵的作用是将合格的二***脱盐水输送至EDI系统。

5.2 紫外线灭菌器

紫外线灭菌器的作用是杀死纯水中的细菌和微生物。紫外线按其生物学作用的差异，

紫外线可分为UV-A(320-400nm)、UV-B(275-320nm)、UV-C(200-275nm)和真空紫外线部分。

水处理中实际上使用紫外线的UV-C部分。波长在240-270nm的紫外线能破坏DNA生产蛋白质及复制的能力。

5.3 TOC脱除器

    TOC脱除器紫外线波长为180纳米，可将脱气膜系统产水中的总有机碳（TOC）分解成离子并脱除。

5.4  0.2um膜滤器

   采用大流量的0.2um滤芯过滤，以去除超纯水中可能存在的细小微粒和细菌。

   本系统配置1台0.2um膜滤器，采用15支0.2umX40寸滤芯过滤。

5.5 EDI系统

EDI是一种将电渗析和离子交换相互结合在一起的除盐新工艺，该工艺过程取电渗析和离子交换两者之长，弥补对方之短，即利用离子交换能深度脱盐来克服电渗析极化而脱盐不彻底，又利用电渗析极化而发生水电离产生H⁺和OH^-实现树脂自再生来克服树脂失效后通过化学药剂再生的缺陷。因而EDI技术是一种完美的除盐工艺。

EDI电去离子膜堆同时进行着如下三个主要过程: 1) 阴、阳混合离子交换树脂上的OH^- 和H⁺ 离子对水中电解质离子的离子交换过程(从而加速去除纯水室内水中的离子)；2)在外电场作用下,水中电解质离子通过离子交换膜进行选择性迁移的电渗析过程；3) 电渗析的极化过程所产生的H⁺和OH^-及交换树脂本身的水解作用对交换树脂进行的再生过程。这三个过程同时发生，相互促进，实现了EDI连续去离子。

l EDI进水要求

为了保证 EDI 膜块在使用中能发挥***好的效果，必要的进水条件，是需要满足的。

5.6 氮封水箱

   氮封水箱用于储存EDI系统产水，其目的是为了保证供水水质的稳定，同时可通过水箱的液位控制装置控制超纯水泵的启停，调节系统的产水量变化。但是由于超纯水与空气接触即变质，因此水箱必须用99.995%以上的高纯氮气加以保护。

5.7脱气膜系统

  为了得到高电阻率的超纯水，应该除去水中的二氧化碳和溶解氧气体。其中，二氧化碳的去除尤为重要。采用脱气膜可以消除二氧化碳等因素队水质的影响。系统配有一套完善的脱气系统，主要有真空泵和脱气膜组成。

脱气膜采用微孔中空纤维膜脱除水中的二氧化碳和溶解氧。

在典型的操作运行中，水在中空纤维膜丝外侧流动，同时中空纤维膜丝内部抽真空或者施加气体吹扫，或者两者结合。经过疏水化处理的中空纤维膜丝表面上有很多微孔，这些微孔允许气体分子穿过，却能阻挡水分子的穿透。在抽真空或者气体吹扫的负压下，中空纤维膜丝外侧水中溶解的气体，通过微孔不断向中空纤维膜丝内部移动，并被抽真空或者吹扫气体带走，从而达到脱除水中溶解性气体的目的。

5.8抛光混床

为获得电子、医药或其他行业用电导率0.055μS/cm（电阻率18.2 MΩ·cm）的理论纯水，在普通混床或EDI净水设备后，通常还装设抛光混床进行***终的精处理。这种抛光混床用树脂是相对密度很接近的阴树脂和阳树脂的混合物，由于无法将这种树脂的阴、阳树脂分离，不能用酸碱将它们分别再生，所以这种抛光树脂失效后，不能再重复使用。

5.9  0.1um膜滤器

   采用大流量的0.1um滤芯过滤，以去除超纯水中可能存在的细小微粒和细菌。主要是控制微小颗粒、树脂破碎的碎末等。

5.10  回水紫外线杀菌器

   主要作用是保证终端系统的回水水质。

5.11清洗系统

EDI膜堆一般运行一定时间需要清洗消毒，以保证设备的使用寿命。其操作过程必须严谨，需由专业人员完成。

(1) 化学清洗系统包括清洗箱、清洗泵、保安过滤器及和连接的管道、接头、监测仪表等。

(2) 清洗系统清洗箱、管道材质、水泵及清洗保安过滤器均为符合适用于所有的清洗液相应耐腐等***。

五、电气控制系统

控制系统采用PLC+上位机控制系统。可实现手动/自动的切换，并预留以太网接口，可接入中控室进行远程操作。整个系统包括（水箱和水泵）的实现就地控制。乙方提供的PLC对系统过程进行集中监控。即脱水处理站生产过程的监控、操作及状态监控、故障报警、显示、累计和调节、程序的控制、报警的确认、消音和复位，均由乙方提供的PLC实施。同时部分参数送至甲方的DCS系统进行显示。

六、设备配置表（详细电联）